SamsungがEUV（極端紫外線リソグラフィ）技術を使った5nm半導体プロセスの開発を完了したと発表している。
EUV技術を使用する7nmプロセスと比較して、今回開発された5nmプロセスを採用するチップセットは25%の小型化に成功し、電力効率は20%向上するという。また、5nmプロセスのチップセットは7nmプロセスのものと比較してパフォーマンスは10%向上するようだ。
Samsung製5nmプロセスチップセットは2020年より量産開始
Samsungは2019年初めに7nmプロセスの量産を開始しており、既に顧客に商用サンプルを提供している。この5nmプロセスの重要な利点として7nmプロセスの知的財産（IP）を全て5nmに再利用できるとしているため、7nmプロセスの顧客はスムーズに5nmプロセスへと移行することができる。
これによって、移行コストの削減や検証済みの設計システムを使用できることなどから、5nmプロセスの製品開発期間が短縮できるという。
Samsungは現在、EUVベースのプロセス技術を韓国の華城のS3ラインで製造しており、華城のEUV生産ラインを2019年後半に完成させる予定で、2020年より生産（量産）を開始する予定だという。
